中芯国际在无EUV设备条件下量产5纳米级N+3工艺 华为麒麟9030已采用 中国晶圆代工企业中芯国际(SMIC)正式实现其最新5纳米级工艺节点SMIC N+3的量产,被外界视为目前中国境内最先进、且完全在无极紫外(EUV)光刻设备条件下量产的半导体制程。该节点依托深紫外(DUV)光刻技术完成芯片制造,绕开了对EUV设备的依赖。 科技 2025年12月12日 0 点赞 0 评论 205 浏览
ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单 早讯网2 月 13 日消息,荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机,还透露其 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 3.5 亿欧元(备注:当前汇率约 27.16 亿元人民币)。相比之下,现有的EUV 光刻机价格约为 1.7 亿欧元(当前约 13.19 亿元人民币),当然具体价格要取决于具体型号和配置。 科技 2024年02月14日 0 点赞 0 评论 577 浏览